3. 노광 공정 핵심 장비사 – ASML의 EUV 기술력과 반도체 미세공정 경쟁력

노광 공정이란?

반도체 제조의 첫 단추는 바로 '노광 공정(Photolithography)'입니다.
웨이퍼 위에 정밀한 회로 패턴을 새기기 위해, 빛을 활용해 포토레지스트(PR)에 패턴을 형성하는 과정이죠.

이 과정은 나노미터 단위의 정밀도를 요구하며, 반도체 성능의 핵심 경쟁력인 '미세공정'의 시작점이기도 합니다.

노광 장비 분야에서 가장 앞서 있는 기업은 단연 네덜란드의 ASML입니다.
이 회사는 현재 극자외선(EUV) 노광 장비를 세계에서 유일하게 상용화한 기업으로,
7nm 이하 미세 공정의 핵심 파트너로 자리잡고 있습니다.

삼성전자, TSMC, 인텔 같은 글로벌 파운드리들도
ASML의 EUV 노광 장비 없이는 첨단 공정 양산이 불가능한 상황입니다.

노광 공정의 핵심 장비사 TOP 3

장비사	주요 기술	특징
ASML (네덜란드)	EUV, ArF 노광 장비	EUV 독점 생산, 7nm 이하 공정 필수
Nikon (일본)	ArF, KrF 노광 장비	비용 효율성, 일본 내 수요 기반
Canon (일본)	중소형 ArF 장비	비메모리 및 디스플레이용 강점

ASML의 EUV 장비는 13.5nm 파장의 극자외선 광원을 이용해
기존 불화아르곤(ArF) 기술보다 훨씬 더 정밀한 회로 패턴을 구현할 수 있습니다.

왜 ASML의 EUV 장비가 중요한가?

1대 가격이 2천억 원 이상으로 알려진 이 장비는
공급 수량 자체가 한정적이기 때문에 주요 반도체 기업 간의 확보 경쟁도 치열합니다.

뿐만 아니라, EUV 장비는 단순히 기술력뿐 아니라
공정 내 ▲정렬 정확도 ▲오염 제어 ▲마스크 투명도 등의 복합적인 기술 융합이 필요합니다.

ASML은 반도체 미세공정 경쟁력의 ‘목줄’을 쥐고 있는 셈이죠.

실사용자 입장에서 본 소감

ASML의 장비는 그 가격만큼이나 존재감도 강렬합니다.
국내 반도체 업계에서 일하는 실무자 입장에서 보면,
한 대만 도입하더라도 공정 자체의 수준이 달라진다고 느껴질 정도입니다.

특히 5nm 이하 공정에서는 EUV 없이 설계 자체가 어렵기 때문에
공장 라인의 전략도 EUV 기반으로 맞춰지는 경우가 많습니다.

총평 – EUV 시대, 노광 장비는 곧 경쟁력이다

반도체 시장이 AI, 자율주행, 서버 고성능화 등으로 확대되며
노광 공정의 중요성은 더욱 커지고 있습니다.

ASML이 독점 공급하는 EUV 장비는 단순한 장비를 넘어
국가 기술 전략의 핵심 인프라로도 주목받고 있습니다.

향후 반도체 산업에서 살아남기 위해선
EUV 노광 기술에 대한 꾸준한 투자와 장비 확보가 가장 중요합니다.

여러분은 ASML의 EUV 장비가 앞으로 반도체 산업에 어떤 영향을 줄 것으로 생각하시나요?
댓글로 함께 이야기 나눠보아요!