l-na2 3. 노광 공정 핵심 장비사 – ASML의 EUV 기술력과 반도체 미세공정 경쟁력 노광 공정이란? 반도체 제조의 첫 단추는 바로 '노광 공정(Photolithography)'입니다. 웨이퍼 위에 정밀한 회로 패턴을 새기기 위해, 빛을 활용해 포토레지스트(PR)에 패턴을 형성하는 과정이죠. 이 과정은 나노미터 단위의 정밀도를 요구하며, 반도체 성능의 핵심 경쟁력인 '미세공정'의 시작점이기도 합니다. 노광 장비 분야에서 가장 앞서 있는 기업은 단연 네덜란드의 ASML입니다. 이 회사는 현재 극자외선(EUV) 노광 장비를 세계에서 유일하게 상용화한 기업으로, 7nm 이하 미세 공정의 핵심 파트너로 자리잡고 있습니다. 삼성전자, TSMC, 인텔 같은 글로벌 파운드리들도 ASML의 EUV 노광 장비 없이는 첨단 공정 양산이 불가능한 상황입니다. 노광 공정의 핵심 장비사 TOP .. 2025. 5. 13. 1. 반도체 장비 산업의 이해 – 공정의 핵심을 책임지는 기업들 1. 반도체 장비 산업의 이해 – 공정의 핵심을 책임지는 기업들반도체 제조 공정은 수백 개의 정밀한 단계를 거쳐 완성됩니다. 이 모든 과정을 가능하게 하는 것이 바로 반도체 장비입니다.장비 산업은 공정의 효율성과 품질을 좌우하는 핵심 요소로, 기술력과 신뢰성이 매우 중요한 분야입니다.1) 반도체 장비의 역할과 중요성반도체 장비는 웨이퍼 가공, 패터닝, 증착, 식각, 검사 등 각 공정 단계에서 필수적인 역할을 수행합니다. 정밀도: 나노미터 단위의 정밀한 가공 가능 생산성: 대량 생산을 위한 자동화 및 속도 향상 신뢰성: 공정의 일관성과 품질 유지장비의 성능은 곧 반도체의 품질과 생산 수율에 직결되므로, 장비 선택은 매우 중요한 결정입니다.2) 주요 반도체 장비사 소개Applied Materia.. 2025. 5. 8. 이전 1 다음