etching1 5. 식각 공정 – 회로 패턴을 실리콘 위에 새기는 정밀 가공의 시작 5. 식각 공정 – 회로 패턴을 실리콘 위에 새기는 정밀 가공의 시작포토 공정을 통해 감광막(PR) 위에 회로 패턴이 형성되었다면, 이제 그 패턴을 실리콘 기판에 실제로 새겨 넣을 차례입니다. 이 과정을 맡는 핵심 단계가 바로 식각(Etching) 공정입니다.식각은 회로 설계에 불필요한 재료를 정밀하게 제거해 반도체 회로의 뼈대를 만드는 작업이라 할 수 있습니다.1) 식각이란?식각은 웨이퍼 표면에 남아 있는 PR 패턴을 기준으로, 불필요한 영역의 막을 깎아내는 공정입니다.사용 방식은 크게 두 가지입니다. 습식 식각(Wet Etching): 액체 화학 약품으로 녹이는 방식 건식 식각(Dry Etching): 플라즈마를 이용해 원자 단위로 깎아내는 방식현대 반도체 제조에서는 정밀도가 뛰어난 건식 .. 2025. 5. 7. 이전 1 다음