노광공정2 4. 노광과 현상 공정 – 반도체 회로를 새기는 정밀 작업의 세계 4. 노광과 현상 공정 – 반도체 회로를 새기는 정밀 작업의 세계포토 공정에서 PR 코팅이 끝났다면, 이제는 그 위에 회로를 직접 새길 차례입니다. 빛과 화학 반응을 통해 회로 패턴을 형성하는 과정이 바로 노광과 현상 공정입니다. 이 두 단계는 반도체 회로의 정밀도와 직결되는 핵심 공정입니다.1) 노광(Exposure) – 빛으로 회로를 그리다노광은 ‘노출시킨다’는 뜻 그대로, 회로 패턴이 담긴 마스크(Mask)를 통과한 빛을 PR에 비추는 과정입니다. 이때 사용되는 빛은 DUV(Deep UV) 또는 EUV(Extreme UV)로, 파장이 짧을수록 더 미세한 패턴을 구현할 수 있습니다. DUV: 193nm 파장, 중간 선폭 공정에서 사용 EUV: 13.5nm 파장, 첨단 미세 공정에 필수 빛이.. 2025. 5. 7. 2. 포토 공정 전체 흐름 정리 – 반도체 회로는 이렇게 새겨집니다 2. 포토 공정 전체 흐름 정리 – 반도체 회로는 이렇게 새겨집니다반도체 칩 안에 머리카락보다 더 얇은 회로를 새기는 기술, 바로 포토 공정입니다. 이 공정은 빛을 활용해 아주 미세한 회로 패턴을 웨이퍼 위에 그려 넣는 과정으로, 반도체의 성능과 직결되는 핵심 중의 핵심입니다.이번 글에서는 포토 공정이 실제로 어떤 흐름으로 진행되는지, 전체 과정을 차근차근 정리해보겠습니다.1) 포토 공정이란?포토 공정(Photolithography)은 자외선(UV)이나 극자외선(EUV)을 사용해 웨이퍼 위에 회로 모양을 그려주는 공정입니다. 쉽게 말해, 반도체 회로의 밑그림을 만드는 작업이라고 볼 수 있습니다.이 밑그림이 정확하고 정밀해야, 이후 식각이나 증착 같은 공정에서도 불량 없이 잘 만들어질 수 있습니다. 포토 .. 2025. 5. 6. 이전 1 다음